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光束質(zhì)量分析儀工作原理

更新時(shí)間:2023-04-19      點(diǎn)擊次數(shù):1000
光束質(zhì)量分析儀可測(cè)量激光強(qiáng)度分布,范圍包括EUV,UV,VIS和NIR,光斑直徑從1µm - 100 mm,可按EN-ISO標(biāo)準(zhǔn)記錄和分析光束。
 
具有適合于分析光斑和光束位置以及用于均勻激光光束特點(diǎn)描述的各種軟件工具,可選附件便于協(xié)調(diào)脈沖激光器和單脈沖的測(cè)量。
 
機(jī)械部分采用特殊表面細(xì)化、光學(xué)部分采用光學(xué)增透膜把雜散光減小到zui小的優(yōu)化探測(cè)頭。
 
VIS/NIR激光光束分析儀 UV激光光束分析儀
 
基于激光光束分析儀的“光束檢測(cè)”的CCD相機(jī),被優(yōu)化適合于低輸出功率的連續(xù)和脈沖激光器準(zhǔn)直光束分析,大部分VIS/NIR波長(zhǎng)范圍的激光,可用此系統(tǒng)典型分析,例如Nd:YAG或者半導(dǎo)體激光器通常使用此系統(tǒng)分析。
 
光束質(zhì)量分析儀包含Beamlux II軟件、標(biāo)準(zhǔn)攝像頭及附件如中性密度濾光片組合和可快速建立測(cè)量的設(shè)備,使用這些可選配件,系統(tǒng)也可用于高功率激光束和焦點(diǎn)直徑小于10µm的測(cè)量。
 
產(chǎn)品應(yīng)用:測(cè)量光斑大小、發(fā)散角、近場(chǎng)、遠(yuǎn)場(chǎng)、光束指向穩(wěn)定性、功率、焦散、均勻性
 
光束質(zhì)量分析儀的使用
 
目的:
 
1、學(xué)會(huì)使用光束質(zhì)量分析儀 BeamScope-P7探頭測(cè)量激光光束M2
 
2、學(xué)會(huì)使用激光質(zhì)量分析儀WinCamD 探頭觀察和測(cè)量激光光斑。
 
原理:
 
2M 是一個(gè)描述激光光束的不完善程度的無(wú)量綱參數(shù)。2M 值越?。垂馐浇咏苌錁O限的00TEM 的理想光束),光束就越能夠緊聚焦成一個(gè)小光斑。
 
沒(méi)有激光光束是完全理想的。由于光學(xué)諧振腔、激光介質(zhì)和輸出/輔助光學(xué)元件的影響,大多數(shù)光束都不是書本上介紹的“理想的”、衍射極限的、高斯截面的單一的00TEM 模式。復(fù)雜的光束可能包含多個(gè)xy TEM 模式的貢獻(xiàn),導(dǎo)致了較大的2M 因子,即使是較好的實(shí)驗(yàn)室用的He-Ne 激光也有1.1到1.2左右的值,而不是具有理想的00TEM 模式下的1.0的2M 值。
 
簡(jiǎn)單的說(shuō)2M 可以定義為:實(shí)際的光束與具有相同束腰大小的、理論上的衍射極限的光束的發(fā)散程度之比為:測(cè)量2M 因子的前提條件是得到或形成一個(gè)可以測(cè)量的光束束腰。

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